真空鍍膜設備
常見的真空技術包括：
真空獲得技術：真空獲得技術是實現(xiàn)真空環(huán)境的關鍵，包括機械泵、分子泵、離心泵等類型，用于產(chǎn)生和維持真空環(huán)境。
真空測量技術：真空測量技術是用于測量真空環(huán)境參數(shù)的技術，包括真空計、壓力傳感器等設備，用于監(jiān)測和控制真空環(huán)境。
真空檢漏技術：真空檢漏技術是用于檢測真空系統(tǒng)泄漏的技術，包括氦質譜檢漏、離子泵檢漏等，以確保真空系統(tǒng)的密封性和可靠性。
真空應用技術：真空應用技術是利用真空環(huán)境進行各種工藝和生產(chǎn)的技術，包括真空鍍膜、真空熱處理、真空包裝等。
真空閥門技術：真空閥門技術是用于控制真空管道中氣體流動的技術，包括各種類型的真空閥門，如球閥、蝶閥等，用于調節(jié)和控制氣體流動。
氣體凈化技術：氣體凈化技術是用于去除氣體中的雜質和水分的技術，包括各種氣體凈化裝置，如活性炭吸附器、冷凝器等，以確保氣體的純度和干燥度。
蒸發(fā)沉積技術：蒸發(fā)沉積技術是利用蒸發(fā)原理將材料沉積到基底上的技術，常用于制備薄膜和涂層等。
離子注入技術：離子注入技術是將離子束注入到材料表面，以改變材料表面的性質和結構的技術，常用于材料改性和表面處理。
分子束外延技術：分子束外延技術是利用分子束在晶體表面上進行外延生長的技術，常用于制備單晶材料和超薄膜等。
離子束刻蝕技術：離子束刻蝕技術是利用離子束對材料進行刻蝕和加工的技術，具有高精度和高效率的特點。
以上僅是一些常見的真空技術，實際上還有很多其他類型的技術和應用領域，如等離子體物理學、空間環(huán)境模擬等。
