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                                英國Oxford Vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)Vapour Station 4

微納器件樣品制備系統(tǒng)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

該電子束蒸發(fā)鍍膜儀是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機(jī)無機(jī)多源有 氣相分子沉積系統(tǒng)，高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機(jī)、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護(hù)條件下器件后期制作，主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能， 研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)也可用于普通金屬電蒸發(fā)鍍膜研究；

真空室采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼，氬弧焊接、采用先進(jìn)鈍化處理工藝?；_(tái)尺 寸：3 英寸，配備一套 TELEMARK 的單袋電子束靶槍一套；鍍膜室用一臺(tái) 高精度石英晶振膜厚監(jiān)測(cè)儀進(jìn)行薄膜厚度監(jiān)測(cè)，配備有原裝石英晶振探頭； 鍍膜生長(zhǎng)室放置2個(gè)熱阻蒸發(fā)舟，是一款真空高性價(jià)比的電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)。

尺寸:495 mm (L) x 485 mm (W) x 500 mm (H)

真空腔體:

真空腔體要求：大樣品尺寸為 3 英寸，樣品臺(tái)直徑為 75mm； 薄膜均勻性≤±1%；

限壓力：真空腔室薄膜高真空度＜3×10-7 mbar；

真空計(jì)：真空測(cè)量系統(tǒng)，寬范圍的真空規(guī)，高真空度小于 3×10-7mbar；

樣品夾：真空腔體里配有樣品夾，能夠固定住樣品；

擋板：真空腔體里配有沉積擋板，工作時(shí)能區(qū)分開不同樣品；

蒸發(fā)樣品池：配置單袋容量 1.5cc 的電子束靶槍，電源功率為3KW ；

蒸發(fā)舟：2個(gè)熱蒸發(fā)鎢舟，用于沉積一些熱蒸發(fā)材料；

薄膜監(jiān)測(cè)儀：

.電腦控制的薄膜監(jiān)測(cè)儀，能實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度情況；

.測(cè)量頻率范圍至少包含6.0 to 5.0 MHz這個(gè)范圍；

.頻率分辨率應(yīng)≤±0.03 Hz （at 6 MHz）； 測(cè)量間隔應(yīng)≤0.10 s；厚度顯示分辨率≤1 Å；

真空系統(tǒng)：

 .真空系統(tǒng)組成：應(yīng)至少包含一臺(tái)干式渦旋泵和一臺(tái)渦輪分子 泵，美國安捷倫干式渦旋泵作為泵；

.愛德華渦輪分子泵：

 -N2抽速：240 L/s；

 -限真空（ISO）：<6&times;10-8mbar；

 -強(qiáng)制空氣冷卻，35&deg;C,環(huán)境溫度：30sccm；

 -標(biāo)稱旋轉(zhuǎn)速度：60000rpm；

 -待機(jī)旋轉(zhuǎn)速度范圍：33000-60000rpm；

 -可編程功率限制范圍：50-200W

 -強(qiáng)制空氣冷卻的環(huán)境空氣溫度：5-35&deg;C；

 -噪音別：<45dB(A)

冷卻方式包含有風(fēng)冷和水冷兩種方式可供提選擇；